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アイテム
KCl処理を行ったZnO薄膜の光学特性の改善とデバイス作製への応用
https://oit.repo.nii.ac.jp/records/360
https://oit.repo.nii.ac.jp/records/360b218351b-5f98-4d84-bb71-ebdf95922da9
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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KCl処理を行ったZnO薄膜の光学特性の改善とデバイス作製への応用 (318.9 kB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| 公開日 | 2020-08-06 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | KCl処理を行ったZnO薄膜の光学特性の改善とデバイス作製への応用 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| タイトル | Enhanced of PL intensity of ZnO films by KCl treatment and its application to FET fabrication | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | en | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 著者 |
田中, 隆一郎
× 田中, 隆一郎
× 石井, 弘晃
× 市塲, 信康
× 前元, 利彦
× 佐々, 誠彦
× 井上, 正崇
× TANAKA, Ryuichiro
× ISHII, Hiroaki
× ICHIBA, Nobuyasu
× MAEMOTO, Toshihiko
× SASA, Shigehiko
× INOUE , Masataka
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| 出版者 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 出版者 | 大阪工業大学紀要委員会 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 言語 | jpn | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 書誌情報 |
大阪工業大学紀要 理工篇 en : Memoirs of the Osaka Institute of Technology, Series A 巻 50, 号 2, p. 57-65, 発行日 2006-02-28 |
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| ISSN | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 収録物識別子 | 0375-0191 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
